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新品|美淼RCDI——第三代電容電吸附技術(shù)產(chǎn)品及應(yīng)用場景介紹
更新時(shí)間:2023-02-25 點(diǎn)擊:1151

 

01  RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)介紹

 

RCDI(Rocking-chair capacitive deionization)“搖椅式”電容電吸附技術(shù),在MCDI(membrane capacitive deionization)膜電容電吸附技術(shù)的基礎(chǔ)上,針對單個(gè)MCDI模塊無法完成連續(xù)性產(chǎn)水以及能量利用率較低的問題,結(jié)合了腔室連續(xù)產(chǎn)水技術(shù)的優(yōu)勢而誕生了RCDI連續(xù)產(chǎn)水脫鹽模塊。通過將模塊內(nèi)部分隔成濃水室與產(chǎn)水室相間的結(jié)構(gòu),在對模塊施加電壓后,對應(yīng)的腔室會(huì)分別形成濃水與產(chǎn)水,在產(chǎn)水室一側(cè)工作電極吸附飽和后反向施加電壓,使得原本濃水室與產(chǎn)水室功能互換,從而實(shí)現(xiàn)原濃水室一側(cè)電極的吸附以及原產(chǎn)水室一側(cè)電極的再生,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)模塊整體連續(xù)產(chǎn)水脫鹽功能。

02 RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)工作原理

 

RCDI原理-01.jpg

1 模塊工作原理圖

RCDI模塊內(nèi)部重復(fù)工作單元結(jié)構(gòu)如圖1所示,且為該電壓施加方向下,工作單元內(nèi)兩腔室的分布情況。工作時(shí),同時(shí)以相同或不同的流速向兩腔室通水,在施加電壓后,溶液中帶電粒子受電場力驅(qū)動(dòng)向不同腔室運(yùn)動(dòng),產(chǎn)水室中帶正電粒子被吸附至工作電極表面,帶負(fù)電粒子通過陰離子交換膜遷移到濃水室一側(cè)從而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)水,而濃水室中帶電離子富集隨水流流出模塊。

03 RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)模塊工作性能

 

RCDI-02.jpg

 

注:根據(jù)實(shí)際原水水質(zhì)設(shè)計(jì)若干模塊組件為一個(gè)工作單元,工作單元處理性能在范圍內(nèi)可調(diào)。

04 RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)模塊進(jìn)水要求

 RCDI-05.jpg

 

05 RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)性能優(yōu)勢

 

RCDI_畫板-1---副本縮小.jpg

 

06 RCDI—第三代電容電吸附技術(shù)產(chǎn)品應(yīng)用場景

 

RCDI-07---副本縮小.jpg 

 

 

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